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CKD喜開理高壓液體氣控閥AMD41H-4BJ的應用案例

更新時間:2026-01-14點擊次數(shù):50

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AMD※1H系列是CKD喜開理專為高壓工況設計的液體氣控閥,具備耐高壓(耐壓力達1.4MPa)、耐腐蝕、響應迅速、低水錘等核心特性,適配多種化學液體、高壓純水及工業(yè)用油等介質(zhì)。其應用覆蓋化工、半導體、新能源、重型機械等多個領域,以下為典型應用案例詳解。

案例一:化工行業(yè)——高壓反應釜腐蝕性介質(zhì)進料控制

某大型精細化工企業(yè)需對高壓反應釜進行進料控制,反應釜工作壓力穩(wěn)定在0.8~1.0MPa,進料介質(zhì)為含氟強酸溶液,具有強腐蝕性,且需精準控制進料流量與時機,避免因進料波動影響反應效率。該企業(yè)最終選用AMD※1H系列中的AMD41H-4BJ型號閥門。
閥門核心作用:作為進料管路的核心控制元件,接收PLC信號后快速開啟/關閉,實現(xiàn)強酸介質(zhì)的定量進料;閥體采用PTFE內(nèi)襯+不銹鋼外殼,密封件選用全氟橡膠,適配強腐蝕介質(zhì);其高壓密封結構確保在1.0MPa壓力下無泄漏,低水錘設計避免進料時的壓力沖擊對反應釜釜體造成損傷。應用效果:閥門穩(wěn)定運行超過18個月,未出現(xiàn)腐蝕或泄漏問題,進料精度較原閥門提升,反應釜產(chǎn)品合格率提高,設備維護頻次減少。

案例二:半導體行業(yè)——晶圓清洗高壓純水控制

某半導體芯片制造企業(yè)的晶圓清洗工序中,需使用1.2MPa高壓純水去除晶圓表面的微小雜質(zhì)與光刻膠殘留,要求閥門響應速度快(≤50ms),無二次污染,適配潔凈車間的使用環(huán)境。選用AMD※1H系列中的AMD31H型號閥門組建清洗流體控制系統(tǒng)。
閥門核心作用:配合高壓水泵實現(xiàn)清洗壓力的精準調(diào)節(jié),通過氣動信號快速切換清洗回路,確保晶圓不同區(qū)域的清洗壓力穩(wěn)定;閥體采用電解拋光處理,流道光滑,符合半導體行業(yè)的潔凈標準;密封結構采用PTFE材質(zhì),避免金屬離子析出污染純水。應用效果:閥門響應速度滿足高頻清洗需求,晶圓清洗合格率提升,流道潔凈度符合SEMI S2標準,無二次污染問題發(fā)生,設備連續(xù)運行穩(wěn)定性良好。

案例三:新能源行業(yè)——鋰電池正極材料制備高壓電解液輸送

某鋰電池生產(chǎn)企業(yè)在正極材料(三元鋰)制備過程中,需將高壓電解液(含鋰鹽、有機溶劑)輸送至高溫反應釜,工作壓力為1.0~1.2MPa,介質(zhì)具有一定腐蝕性且易揮發(fā),要求閥門具備優(yōu)異的密封性能與耐溫性(適配80℃工況)。選用AMD※1H系列中的AMD51H高溫型閥門作為輸送管路的核心控制元件。
閥門核心作用:實現(xiàn)電解液輸送的通斷控制與流量調(diào)節(jié),配合流量計精準控制進料量;高溫型密封件適配80℃的工作溫度,避免高溫下密封老化;全氟材質(zhì)流道適配電解液的腐蝕性,防止介質(zhì)泄漏導致的安全隱患。應用效果:閥門在高壓高溫工況下穩(wěn)定運行,密封性能可靠,無電解液泄漏現(xiàn)象,進料精度誤差控制在合理范圍,保障了正極材料的制備質(zhì)量,適配生產(chǎn)線的自動化運行需求。

案例四:重型機械行業(yè)——挖掘機高壓液壓油控制

某工程機械制造商為提升大型挖掘機的液壓系統(tǒng)穩(wěn)定性,需對動臂油缸的高壓液壓油進行精準控制,系統(tǒng)工作壓力達1.4MPa,要求閥門具備抗振動、耐沖擊、響應迅速的特性,適配戶外惡劣工況(溫度范圍-10~60℃)。選用AMD※1H系列中的AMD61H型號閥門集成至液壓控制系統(tǒng)。
閥門核心作用:控制液壓油的流向與壓力,配合液壓泵實現(xiàn)動臂的升降與制動;加固型閥體結構適配挖掘機的高頻振動工況,抗沖擊性能優(yōu)異;快速響應特性(動作時間≤80ms)確保動臂操作的精準性與及時性。應用效果:閥門提升了液壓系統(tǒng)的穩(wěn)定性,動臂操作響應靈敏,在高低溫、振動等惡劣工況運行,使用壽命滿足重型機械的長期使用需求,降低了設備的維護成本。

應用案例核心總結

AMD※1H系列憑借高壓耐受、耐腐蝕、快速響應、抗惡劣工況等核心特性,成功適配化工、半導體、新能源、重型機械等多個行業(yè)的關鍵工序。其不同子系列(AMD31H/41H/51H/61H)可根據(jù)通徑、壓力、溫度需求精準匹配場景,通過可靠的密封性能、穩(wěn)定的動作表現(xiàn),為高壓流體控制系統(tǒng)提供安全、高效的控制解決方案,助力企業(yè)提升生產(chǎn)精度、降低維護成本、保障生產(chǎn)安全。
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